2020-03-17
2020-03-09
inas / ingaas Les structures laser à puits quantiques ont été développées inp métamorphiques in0.8al0.2as de tampons par épitaxie par jets moléculaires de source gazeuse. les effets des couches de barrière et de guide d’ondes sur les qualités du matériau et les performances du dispositif ont été caractérisés. Les mesures de diffraction des rayons X et de photoluminescence prouvent les avantages de la compensation de déformation dans la région des puits quantiques actifs sur la qualité du matériau. Les caractéristiques des lasers avec différentes couches de guides d'ondes révèlent que l'hétérostructure de confinement séparée joue un rôle crucial dans les performances de ces lasers métamorphiques. des émissions de type i dans la gamme de 2-3 μm ont été obtenues dans ces inp structures sans métamorphisme à base d'antimoine. En combinant les puits quantiques à compensation de contrainte et les hétérostructures de confinement séparées, les performances du laser ont été améliorées et les émissions laser ont atteint 2,7 µm. source: iopscience Pour plus d'informations, s'il vous plaît visitez notre site Web:http://www.semiconductorwafers.net , envoyez nous un email àangel.ye@powerwaywafer.com oupowerwaymaterial@gmail.com
nous extrayons les produits de mobilité-durée de vie des porteurs pour les gazas épitaxiés et démontrons la réponse spectrale aux rayons gamma d'un gasb photodiode p-i-n avec une région d'absorption de 2 µm d'épaisseur. sous exposition à des sources radioactives de 55fe et 241am à 140 k, la photodiode présente une pleine largeur à des résolutions d'énergie moitié de maximum de 1,238 ± 0,028 et 1,789 ± 0,057 kev à 5,89 et 59,5 kev, respectivement. Nous observons une bonne linéarité de la photodiode gasb à travers une gamme d'énergies photoniques. le bruit électronique et le bruit de piégeage de la charge sont mesurés et sont les principaux composants limitant les résolutions d'énergie mesurées. source: iopscience Pour plus d'informations, s'il vous plaît visitez notre site Web:http://www.semiconductorwafers.net , envoyez nous un email àangel.ye@powerwaywafer.com oupowerwaymaterial@gmail.com
l'extraction de chaleur est souvent essentielle pour assurer des performances efficaces des dispositifs à semi-conducteurs et nécessite de minimiser la résistance thermique entre les couches de semi-conducteurs fonctionnelles et tout dissipateur thermique. cet article rapporte le croissance épitaxiale de n-polaire films de gan sur des substrats en diamant polycristallin de conductivité thermique élevée avec une épitaxie en phase vapeur métal-organique, en utilisant une couche de Si x formée pendant le dépôt de diamant polycristallin sur un substrat de silicium. la couche si x c sert à fournir les informations de classement de structure nécessaires à la formation d'un film monocristallin à l'échelle de la tranche. On montre qu'un processus de croissance en trois dimensions des îles (3d) élimine les défauts hexagonaux induits par la nature non monocristalline de la couche si x c. il est également démontré qu'une croissance 3D intensive et l'introduction d'une courbure convexe du substrat peuvent être déployées pour réduire la contrainte de traction dans l'épitaxie du gan afin de permettre la croissance d'une couche sans fissure jusqu'à une épaisseur de 1,1 µm. la torsion et l'inclinaison peuvent être aussi faibles que 0,65 ° et 0,39 ° respectivement, des valeurs largement comparables à celles du gan cultivé sur des substrats de structure similaire. source: iopscience Pour plus d'information, veuillez visiter notre site web:http://www.semiconductorwafers.net , envoyez nous un email àangel.ye@powerwaywafer.com oupowerwaymaterial@gmail.com
Nous rapportons la croissance par épitaxie par faisceau chimique assistée au sans-fil de nanofils de zincblende sans défaut. le cultivé insb les segments sont les parties supérieures de inas / heterostructures insb sur des substrats inas (111) b. nous montrons, à travers l'analyse de hrtem, que zincblende insb peut être cultivé sans défauts cristallins tels que des failles d'empilement ou des plans de jumelage. l'analyse de la contrainte-carte démontre que le segment insb est presque détendu à quelques nanomètres de l'interface. par des études de post-croissance, nous avons trouvé que la composition de particules de catalyseur est auin2, et elle peut être modifiée en un alliage auin en refroidissant les échantillons sous flux de tdmasb. source: iopscience Pour plus d'information, veuillez visiter notre site web:http://www.semiconductorwafers.net , envoyez-nous un email àangel.ye@powerwaywafer.com oupowerwaymaterial@gmail.com
l'imagerie par rayons X avec un détecteur de comptage de photons / pondération d'énergie peut fournir le rapport signal sur bruit le plus élevé (snr). l'acquisition d'images par rayons X à fente / multi-fente peut fournir un rejet de diffusion efficace en termes de dose, ce qui augmente le nombre de snr. l'utilisation d'un détecteur de comptage de photons / de pondération d'énergie dans une géométrie d'acquisition à fente de balayage / multi-fente pourrait fournir l'efficacité de dose la plus élevée possible dans l'imagerie par rayons X et par ct. actuellement, le détecteur de comptage de photons le plus perfectionné est le détecteur de tellurure de cadmium et de zinc (czt), qui est cependant sous-optimal pour l'imagerie par rayons X à résolution d'énergie. un détecteur czt à angle incliné est proposé dans ce travail pour des applications dans le comptage de photons / la pondération d'énergie et l'imagerie ct. en configuration d'angle incliné, le faisceau de rayons X frappe la surface de la matrice linéaire de czt cristaux à un petit angle. ceci permet l'utilisation de cristaux de czt d'une faible épaisseur tout en maintenant l'absorption élevée des photons. petite épaisseur détecteurs de czt permettre une diminution significative de l'effet de polarisation dans le volume de czt et une augmentation du taux de comptage. l'angle incliné czt avec une faible épaisseur fournit également une résolution spatiale et énergétique plus élevée, et un temps de collecte de charge plus court, ce qui permet potentiellement une résolution rapide de l'acquisition d'images radiographiques. dans ce travail, les principaux paramètres de performance de l'angle incliné czt détecteur, y compris son taux de comptage, la résolution spatiale et la résolution de l'énergie, ont été évalués. il a été montré que pour un détecteur czt avec une épaisseur de 0,7 mm et un angle d'inclinaison de 13 °, le taux de comptage maximum peut être augmenté de 10,7 fois, alors que l'absorption de photons reste supérieure à 90% aux énergies de photons jusqu'à 120 kev. l'imagerie par rayons X par comptage de photons / pondération énergétique à l'aide d'un détecteur czt à angle incliné a été simulée. L'amélioration du snr due à une pondération optimale des photons était de 23% et 14% lorsque l'élément de contraste adipeux, inséré dans un tissu mou de 10 cm et 20 cm d'épaisseur respectivement, était visualisé en utilisant 5 poubelles et des facteurs de pondération optimisés pour l'adipose. L'amélioration de snr était de 42% et 31% lorsque l'élément de contraste caco3, inséré dans un tissu mou de 10 cm et 20 cm d'épaisseur, respectivement, a été imagé en utilisant 5 cellules d'énergie et des facteurs de pondération optimisés pour caco3. les snrs du photon comptant des images soustraites de kaco3 et d'adipose à double énergie et à simple kVp ét...
les propriétés thermoélectriques entre 10 et 300 k et la croissance de monocristaux de type n et de type p bi4te7, gesb4te7 et ge (bi1-xsbx) 4te7 solution solide sont rapportés. les monocristaux ont été cultivés par la méthode de Bridgman modifiée, et le comportement de type p a été obtenu par la substitution de bi par sb dans gebi4te7. la thermopower dans la solution solide ge (bi1-xsbx) 4te7 varie de -117 à +160 μv k-1. le passage de type n à type p est continu avec une teneur en sb croissante et est observé à x ≈ 0,15. les rendements thermoélectriques les plus élevés parmi les échantillons testés de type n et de type p sont respectivement znt = 0,11 et zpt = 0,20. pour un couple n-p optimal dans ce système d'alliage, le facteur de mérite composite est znpt = 0,17 à température ambiante. source: iopscience Pour plus d'information, veuillez visiter notre site web:www.semiconductorwafers.net . envoyez-nous un email àangel.ye@powerwaywafer.com oupowerwaymaterial@gmail.com
le matériau le plus mince jamais produit, le graphène, est constitué d'une seule couche d'atomes de carbone. ils forment une structure en treillis de poulet d'un atome d'épaisseur, avec des propriétés uniques. il est environ 200 fois plus résistant que l'acier et très flexible. il est transparent, mais les gaz et les liquides ne peuvent pas le traverser. De plus, c'est un excellent conducteur d'électricité. Il existe de nombreuses idées sur la façon dont ce nanomatériau peut être utilisé, et la recherche dans les applications futures est intense. «Le graphène est fascinant, mais extrêmement difficile à étudier», explique mikhail vagin, ingénieur de recherche principal au département de science et technologie et au département de physique, chimie et biologie de l'université linköping. l'un des facteurs contribuant à la difficulté de comprendre les propriétés de graphène c'est que c'est ce qu'on appelle un matériau "anisotrope". cela signifie que ses propriétés mesurées sur la surface plane de la couche d'atomes de carbone diffèrent de celles mesurées sur les bords. en outre, les tentatives pour comprendre le comportement du graphène au niveau atomique sont compliquées par le fait qu'il peut être produit de plusieurs manières. les propriétés du graphène en petits flocons, qui ont beaucoup de bords, diffèrent de plusieurs façons de celles du graphène produites sous forme de feuilles d'environ 1 cm2. les chercheurs qui ont mené l'étude ont utilisé du graphène créé sur un cristal de carbure de silicium par une méthode développée à l'université de linköping. Lorsque le carbure de silicium est chauffé à 2000 ° C, les atomes de silicium sur la surface se déplacent vers la phase vapeur et seuls les atomes de carbone restent. le graphène ne réagit pas facilement avec son environnement en raison de la haute qualité de la couche de graphène et de son inertie innée, alors que les applications reposent souvent sur une interaction contrôlée entre le matériau et l'environnement, comme les molécules de gaz. une discussion en cours entre les chercheurs dans le domaine est de savoir s'il est possible d'activer le graphène sur la surface plane ou s'il est nécessaire d'avoir des bords. les chercheurs de liu ont étudié ce qui se passe lorsque des défauts de la surface sont introduits de manière contrôlée, et ont ainsi tenté de comprendre plus en détail comment les propriétés du graphène sont liées à sa structure. «Un procédé électrochimique connu sous le nom d'anodisation décompose la couche de graphène de sorte que plus de bords sont créés, nous avons mesuré les propriétés du graphène anodisé et découvert que la capacité du matériau à stocker l'électricité était assez élevée», explique mikhail vagin. plus de travail est nécessaire avant que les nouvelles connaissances puissent être utilisées, et produire le même effet à plus grande échelle. les scientifiques prév...
la capacité de la spectroscopie d'émission optique pour l'étude in situ et le contrôle des dépôts de couches atomiques améliorées par plasma (pe-ald) dephosphure de galliumde la phosphine et du triméthylgallium transportés par l'hydrogène ont été explorés. la composition de gaz changeant pendant le processus de pe-ald a été contrôlée par des mesures in situ de l'intensité d'émission optique pour les lignes de phosphine et d'hydrogène. pour le procédé pe-ald où les étapes de dépôt du phosphore et du gallium sont séparées dans le temps, une influence négative de l'accumulation excessive de phosphore sur les parois de la chambre a été observée. en effet, le phosphore déposé sur les parois lors de l'étape de décomposition du ph3 est gravé par plasma d'hydrogène lors de la prochaine étape de décomposition du triméthylgallium conduisant à un dépôt chimique en phase vapeur classique incontrôlable et indésirable. pour réduire cet effet, il a été proposé d'introduire une étape de gravure plasma hydrogène, qui permet de graver un excès de phosphore avant le début de l'étape de dépôt de gallium et d'obtenir un mode de croissance par dépôt de couche atomique. source: iopscience Pour plus d'information, veuillez visiter notre site web:http://www.semiconductorwafers.net, envoyez-nous un email àangel.ye@powerwaywafer.comoupowerwaymaterial@gmail.com
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