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plaquette de gasb (gallium antimonide)

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plaquette de gasb (gallium antimonide)

2018-01-19

pam-xiamen produit des lingots monocristallins de haute qualité à base d'antimoniure de gallium (gasb).

Nous pouvons également scier, scier, roder et polir les plaquettes à gaz et fournir une qualité de surface épi-prête.

le gaz gasb est un composé formé par un élément ga et sb pur de 6n et est cultivé par la méthode czochralski (lec) encapsulée dans un liquide avec epd \u0026 lt; 1000 cm -3. Le cristal gazeux a une grande uniformité de paramètres électriques et une faible densité de défauts, ce qui convient à la croissance épitaxiale mbe ou mocvd.

nous avons des produits gasb \"epi ready\" avec un large choix en orientation exacte ou non, une concentration faible ou élevée dopée et un bon état de surface. s'il vous plaît nous contacter pour plus d'informations sur les produits.

1) 2 \", 3\" gasb plaquette

orientation: (100) ± 0,5 °

épaisseur (μm): 500 ± 25; 600 ± 25

type / dopant: p / non dopé; p / si; p / zn

nc (cm-3) :( 1 ~ 2) e17

mobilité (cm2 / v · s): 600 ~ 700

méthode de croissance: cz

polonais: ssp

2) plaquette gasb 2 \"

orientation: (100) ± 0,5 °

épaisseur (μm): 500 ± 25; 600 ± 25

type / dopant: n / non dopé; p / te

nc (cm-3) :( 1 ~ 5) e17

mobilité (cm2 / v · s): 2500 ~ 3500

méthode de croissance: lec

polonais: ssp

3) gaufrette gasb 2 \"

orientation: (111) a ± 0.5 °

épaisseur (μm): 500 ± 25

type / dopant: n / te; p / zn

nc (cm-3) :( 1 ~ 5) e17

mobilité (cm2 / v · s): 2500 ~ 3500; 200 ~ 500

méthode de croissance: lec

polonais: ssp

4) gaufrette gasb 2 \"

orientation: (111) b ± 0.5 °

épaisseur (μm): 500 ± 25; 450 ± 25

type / dopant: n / te; p / zn

nc (cm-3) :( 1 ~ 5) e17

mobilité (cm2 / v · s): 2500 ~ 3500; 200 ~ 500

méthode de croissance: lec

polonais: ssp

5) gaufrette gasb 2 \"

orientation: (111) b 2deg.off

épaisseur (μm): 500 ± 25

type / dopant: n / te; p / zn

nc (cm-3) :( 1 ~ 5) e17

mobilité (cm2 / v · s): 2500 ~ 3500; 200 ~ 500

méthode de croissance: lec

polonais: ssp


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Le matériau gasb présente des propriétés intéressantes pour les dispositifs thermophotovoltaïques à simple jonction (tpv). gazb: le monocristal cultivé avec des méthodes czochralski (cz) ou czochristiki (mo-cz) modifiées sont présentés et le problème de l'homogénéité discuté. La mobilité des porteurs étant l'un des points clés du cristal en vrac, des mesures en salle sont effectuées. nous présentons ici quelques développements complémentaires basés sur le point de vue du traitement des matériaux: la croissance des cristaux en vrac, la préparation des plaquettes et la gravure des plaquettes. les étapes suivantes après celles-ci sont liées à l'élaboration de la jonction p / no r n / p. quelques résultats obtenus pour différentes approches d'élaboration de couches minces sont présentés. Ainsi, du simple processus de diffusion en phase vapeur ou du procédé d'épitaxie en phase liquide jusqu'au processus de dépôt chimique en phase vapeur organométallique, nous signalons une certaine spécificité du matériau. doi: 10.1115 / 1.2734570


Pour plus d'information, veuillez visiter notre site web: http://www.semiconductorwafers.net ,

envoyez-nous un email à angel.ye@powerwaywafer.com ou powerwaymaterial@gmail.com .

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Si vous souhaitez un devis ou plus d'informations sur nos produits, s'il vous plaît laissez-nous un message, vous répondrons dès que possible.
   
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