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x-fab et exagan produisent avec succès des premiers dispositifs gan-on-silicon sur des plaquettes de 200 mm

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x-fab et exagan produisent avec succès des premiers dispositifs gan-on-silicon sur des plaquettes de 200 mm

2017-06-11

x-fab silicon foundries et exagan, une start-up innovante de la technologie des semi-conducteurs au nitrure de gallium (gan) permettant des convertisseurs électriques plus petits et plus efficaces, ont démontré une capacité de production en masse pour fabriquer des appareils haute tension à haute performance. wafers au silicium utilisant l'installation de production standard cmos de x-fab à dresden, en allemagne. Cette réalisation est le résultat d'un accord de développement conjoint lancé en 2015, qui permet des avantages coûts / performances impossibles à obtenir avec de plus petites plaquettes.


(image: fonderies de silicium x-fab)


exagan et x-fab ont réussi à résoudre bon nombre des problèmes liés à la contrainte de matériau, à la défectivité et à l'intégration des procédés, tout en utilisant des équipements de fabrication standard et des recettes de processus. combiné à l'utilisation de plaquettes de 200 mm, cela réduira de manière significative le coût de production de dispositifs gan-on-silicon. en permettant une plus grande intégration de la puissance que les silicones, les appareils gan peuvent améliorer l'efficacité et réduire le coût des convertisseurs électriques, ce qui accélérera leur adoption dans des applications telles que bornes de recharge, serveurs, automobiles et systèmes industriels.



(image: exagan)


les nouveaux dispositifs gan-on-silicon ont été construits en utilisant des substrats fabriqués dans l'usine de production d'epi de 200 mm d'exagan à grenoble, en france. ces plaquettes épi répondent aux spécifications physiques et électriques pour produire les appareils g-fet ™ de 650 volts d'Exagan ainsi que les exigences strictes de compatibilité avec les lignes de fabrication cmos.


les travaux antérieurs de l'industrie avec gan se limitaient aux gaufrettes de 100 mm et de 150 mm en raison des problèmes de superposition des films gan sur des substrats de silicium. La technologie g-stack ™ d'exagan permet de fabriquer des dispositifs gan-on-silicon plus rentables sur des substrats de 200 mm en déposant une pile unique de gan et de couches de gestion des contraintes qui soulagent la contrainte entre les couches de gan et de silicium. il a été montré que les dispositifs résultants présentent une tension de claquage élevée, une faible fuite verticale et un fonctionnement à haute température.


\"C'est une étape importante dans le développement de notre société, car nous accélérons le développement et la qualification des produits\", a déclaré Frédéric DUPONT, président et chef de la direction d'EXAGAN. \"Il démontre les forces combinées de notre matériel d'epi, du processus de fabrication de plaquettes de x-fab et de nos capacités de conception d'appareil. cela confirme également le succès de notre modèle fab-lite intégré verticalement, avec une expertise des matériaux aux appareils et aux applications. C'est le moment idéal pour mettre en place la technologie et les produits Gan sur la plate-forme 200 mm la plus compétitive, tout comme les produits Power gan prennent de l'ampleur sur les marchés des serveurs, de l'électronique grand public et de l'automobile.


«Nous avons une grande confiance dans l'équipe de direction et la feuille de route du rendement des produits d'Exagan», a déclaré rudi de winter, chef de la direction de x-fab. «Grâce à ce partenariat productif, x-fab tire parti de ses ressources et de son expertise pour intégrer la technologie d'Exagan dans la fabrication et fournir au marché de la conversion de l'énergie une chaîne d'approvisionnement fiable.


exagan présentera sa technologie gan et ses transistors g-fet innovants sur le stand n ° 9-230 au salon pcim europe, du 16 au 18 mai à Nuremberg, en allemagne.


mots-clés: x-fab, exagan, ganos sur wafer,


source: ledinside


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