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pam-xiamen offre algainas épitaxiale wafer pour laser diode

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pam-xiamen offre algainas épitaxiale wafer pour laser diode

2018-03-02

xiamen powerway advanced material co., ltd., un fournisseur leader de la structure épitaxiale de diode laser et d'autres produits et services connexes a annoncé la nouvelle disponibilité de la taille 3 \"est sur la production de masse en 2017. ce nouveau produit représente une addition naturelle à pam-xiamen la gamme de produits.


dr. \"Nous sommes heureux d'offrir la structure épitaxiale de diode laser à nos clients, y compris beaucoup qui se développent mieux et plus fiable pour le laser dpss.Notre structure épitaxiale de diode laser a d'excellentes propriétés, profil de dopage adapté pour les pertes d'absorption faible et mode simple haute puissance Fonctionnement, région active optimisée pour une efficacité quantique interne de 100%, conception de guide d'ondes large spécial pour un fonctionnement à haute puissance et / ou faible divergence d'émission pour un couplage efficace des fibres, disponibilité améliorant les processus de croissance et de plaquage. et \"nos clients peuvent désormais bénéficier du rendement accru des appareils attendu lors du développement de transistors de pointe sur un substrat carré.Notre structure épitaxiale de diode laser est naturelle par les produits de nos efforts continus, actuellement nous sommes consacrés à développer en continu des produits plus fiables.\"


pam-xiamen La gamme améliorée de produits de structure épitaxiale à diode laser a bénéficié de la technologie, du soutien de l'université et du centre de laboratoire.


maintenant il montre un exemple comme suit:

808nm

composition

épaisseur

dopping

gaas

150nm

c,  p = 1e20

algues  couches

1,51 μm

c

algainas  qw

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

algues  couches

2,57 μm

si

gaassubstrate

350μm

n = 1-4e18

905nm

composition

épaisseur

dopping

gaas

150nm

c, p = 1e20

couches d'algues

1,78μm

c

algainas qw

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

couches d'algues

3,42 μm

si

gaassubstrate

350μm

n = 1-4e18


à propos de xiamen powerway advanced material co., ltd

trouvé en 1990, xiamen powerway advanced material co., ltd (pam-xiamen) est un important fabricant de matériau semi-conducteur composé en Chine. pam-xiamen développe des technologies avancées de croissance des cristaux et d'épitaxie, des procédés de fabrication, des substrats techniques et des dispositifs semi-conducteurs. Les technologies de pam-xiamen permettent une fabrication plus performante et moins coûteuse des plaquettes semi-conductrices.


A propos de la structure épitaxiale de la diode laser

la structure épitaxiale de diode laser est développée en utilisant l'une des techniques de croissance cristalline, en commençant habituellement à partir d'un substrat dopé n, et en faisant croître la couche active dopée i, suivie par la gaine dopée p, et une couche de contact. la couche active est le plus souvent constituée de puits quantiques, qui fournissent un courant de seuil plus faible et une efficacité plus élevée.


q & a

c: merci pour votre message et vos informations.

c'est très intéressant pour nous.

1.laser diode 3 pouces structure épitaxiale pour 808nm quantité: 10 nos.

pourriez-vous nous envoyer des informations sur l'épaisseur et le dopage des couches pour 808 nm?


spécification:

Structure épitaxiale de laser de 3 \"1.generic pour l'émission de 808nm

i.gaas puits quantique longueur d'onde: 799 +/- 5 nm

nous avons besoin d'un pic d'émission pic: 794 +/- 3 nm, pourriez-vous le fabriquer?

ii.pl uniformité de longueur d'onde: \u0026 lt; = 5nm

iii. densité de défauts: \u0026 lt; 50 cm -2

iv. uniformité du niveau de dopage: \u0026 lt; = 20%

v. tolérance au niveau de dopage: \u0026 lt; = 30%

vi. fraction molaire (x) tolérance: +/- 0,03

vii.épaisseur de l'épaisseur de l'épilateur: \u0026 lt; = 6%

viii. tolérance d'épaisseur: +/- 10%

ix.n + substrat gaas

x.substrate epd \u0026 lt; 1 e3 cm -2

support de xi.substrate c: 0.5-4.0x e18 cm-2

xii.major orientation plate: (01-1) ± 0.05º

nous avons également besoin de votre proposition pour les épiwafers 980 et 1550nm. comme indiqué ci-dessous (sur votre site web) ingaasp / ingaas sur substrats inp

nous fournissons ingaasp / ingaas epi sur des substrats inp comme suit:

1.structure: 1.55um ingaasp qw laser

non.

couche

se doper

substrat inp

s-dopé,  2e18 / cm-3

1

tampon n-inp

1,0um, 2e18 / cm-3

2

1.15q-ingaasp  guide d'ondes

80nm, non dopé

3

1.24q-ingaasp  guide d'ondes

70nm, non dopé

4

4 × ingaasp qw ( + 1% ) 5 × ingaasp barrière

5nm  10nm

pl: 1550nm

5

1.24q-ingaasp  guide d'ondes

70nm, non dopé

6

1.15q-ingaasp  guide d'ondes

80nm, non dopé

7

couche d'espace inp

20nm, non dopé

8

inp

100nm, 5e17

9

inp

1200 nm, 1,5e18

dix

ingaas

100 nm, 2e19


pourriez-vous nous informer aussi sur les paramètres ld de lds fabriqués pour vos plaquettes-pi standard?

quelle est la puissance de sortie p de ld en cw avec un seul émetteur avec une largeur de zone d'émission = 90-100um,

par exemple ou moue pour barre ld avec largeur de la zone d'émission = 10mm?

Dans l'attente de votre réponse rapide aux questions ci-dessus.


p: voir ci-dessous s'il vous plaît:

808nm

composition

épaisseur

dopping

gaas

150nm

c, p = 1e20

couches d'algues

1,51 μm

c

algainas qw

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

couches d'algues

2,57 μm

si

gaassubstrate

350μm

n = 1-4e18


905nm

composition

épaisseur

dopping

gaas

150nm

c, p = 1e20

couches d'algues

1,78μm

c

algainas qw

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

couches d'algues

3,42 μm

si

gaassubstrate

350μm

n = 1-4e18


c: nous nous intéressons à l'épi-wafer avec une longueur d'onde laser de 808 nm.

veuillez s'il vous plaît nous envoyer des échantillons d'évaluation à des fins d'évaluation et d'ajustement

du processus technologique parce que notre application est dpss laser et nous devons

!DOCTYPE html> Error 403 (Forbidden)!!1

403. That’s an error.

Your client does not have permission to get URL /translate_a/t?client=webapp&sl=en&tl=fr&hl=fr&dt=bd&dt=ex&dt=ld&dt=md&dt=qca&dt=rw&dt=rm&dt=ss&dt=t&dt=at&ie=UTF-8&oe=UTF-8&otf=2&ssel=0&tsel=0&kc=1&tk=827284.699626&q=get+in+808+%2B-3+nm+after+ld+assembling. from this server. That’s all we know.


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Pour plus d'information, veuillez visiter notre site web: http://www.semiconductorwafers.net ,

envoyez-nous un email à angel.ye@powerwaywafer.com ou powerwaymaterial@gmail.com

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