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Polissage mécano-chimique et nanomécanique des monocristaux semi-conducteurs CdZnTe

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Polissage mécano-chimique et nanomécanique des monocristaux semi-conducteurs CdZnTe

2019-03-05

(1 1 1), (1 1 0) Cd0.96Zn0.04Te et (1 1 1) Cd0.9Zn0.1Te des tranches semi-conductrices développées par la méthode Bridgman verticale modifiée avec des dimensions de 10 mm × 10 mm × 2,5 mm ont été recouvertes avec une solution de poudre Al2O3 polygonale de 2 à 5 µm, puis polie mécano-chimiquement par une solution acide ayant des nanoparticules d'un diamètre d'environ 5 nm, correspondant aux rugosités de surface Ra de 2,135 nm, 1,968 nm et 1,856 nm. La dureté et le module d'élasticité des monocristaux de (1 1 1), (1 1 0) Cd0.96Zn0.04Te et (1 1 1) Cd0.9Zn0.1Te sont de 1,21 GPa, 42,5 GPa; 1,02 GPa, 44,0 GPa; et 1,19 GPa, 43,4 GPa, respectivement. Une fois la nanocoupe effectuée par le nanoindenteur de Berkovich, la rugosité de surface Ra du monocristal de (1 1 1) Cd0.9Zn0.1Te atteint une surface ultra-lisse de 0,215 nm. La dureté et le module d'élasticité de trois types deLes monocristaux de CdZnTe diminuent avec l'augmentation de la charge d'indentation. Lorsque le nanoindenteur quitte la surface des cristaux, les effets d'adhérence sont évidents pour les trois types de monocristaux. Ceci est attribué au comportement de collage plastique du matériau CdZnTe à l'échelle nanométrique. Lorsque la charge d'indentation des trois types de monocristaux de CdZnTe est comprise entre 4 000 et 12 000 µN, le matériau CdZnTe collé sur le nanoindenteur tombe sur la surface et s'accumule autour de la nanoindentation.


Source : IOPscience

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