Les segments inas ont été cultivés au sommet des îles Gaas, initialement créés par épitaxie de gouttelettes sur un substrat de silicium. nous avons systématiquement exploré l'espace des paramètres de croissance pour le dépôt des inas, en identifiant les conditions de la croissance sélective sur gaas et pour la croissance purement axiale. les segments axiaux ont été formés avec leurs parois tou...
cet article propose une nouvelle tridimensionnelle (3d) photolithographie technologie pour un procédé de micropatterning haute résolution sur un substrat fibreux. une brève revue de la technologie de lithographie de la surface non plane est également présentée. La technologie proposée comprend principalement la microfabrication du module d'exposition 3D et le dépôt par pulvérisation de films d...
la densité et l'intensité de diffusion de la lumière de l'oxygène précipite dans cz silicium les cristaux sont mesurés par tomographie à diffusion de lumière. les données numériques clarifiées à travers les mesures sont discutées en relation avec la quantité d'oxygène précipité. les résultats obtenus correspondent bien à l'analyse théorique selon laquelle les précipités d'oxygè...
Les monocristaux de GaSb dopés Te sont étudiés en mesurant les spectres à effet Hall, à transmission infrarouge (IR) et à photoluminescence (PL). On trouve que le GaSb de type n avec une transmittance IR peut atteindre 60% par le contrôle critique de la concentration en dopage Te et de la compensation électrique. La concentration des défauts associés à l'accepteur natif est apparemment faible ...
L'irradiation par faisceau d'ions a été examinée en tant que méthode de création de structures de piliers et de cônes semi-conducteurs à l'échelle nanométrique, mais présente l'inconvénient d'un placement imprécis des nanostructures. Nous rapportons une méthode de création et de modélisation à l'échelle nanométrique InAs des pics par irradiation par faisceau ionique focalis...
Pour réaliser du carbure de silicium haute performance ( SiC ) des dispositifs de puissance, des contacts ohmiques à faible résistance au SiC de type p doivent être développés. Pour réduire la résistance de contact ohmique, une réduction de la hauteur de la barrière aux interfaces métal / SiC ou une augmentation de la concentration de dopage dans les substrats SiC est nécessaire. La réduction de l...
Nous présentons une méthode sans contact pour la détermination du temps de réponse thermique des capteurs de température intégrés dans des plaquettes. Dans cette méthode, une lampe flash éclaire un point de la plaquette en impulsions périodiques; la tache est du côté opposé au capteur testé. La constante de temps thermique du capteur est alors obtenue à partir de la mesure de sa réponse temporelle...
En utilisant le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) à 13,56 MHz, une couche de germe est fabriquée au stade initial de croissance du microcristallin hydrogéné. silicium germanium (μc-Si1-xGex: H) i-layer. Les effets des processus d'ensemencement sur la croissance de µc-Si1-xGex: couches H et la performance de µc-Si1-xGex: H p-i-n cellules solaires à jonction unique sont é...
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