Un epi-réacteur à paroi chaude vertical permettant d'atteindre simultanément un taux de croissance élevé et une uniformité de grande surface a été développé. Une vitesse de croissance maximale de 250 µm / h est obtenue avec une morphologie semblable à un miroir à 1650 ° C. Sous une modification Epi-réacteur une épaisseur uniforme de 1,1% et une uniformité de dopage de 6,7% pour une zone de ray...