maison / nouvelles /

défauts macroscopiques dans les structures à puits quantiques multiples gan / aln développées par les modèles mbe sur gan

nouvelles

défauts macroscopiques dans les structures à puits quantiques multiples gan / aln développées par les modèles mbe sur gan

2018-01-02

Nous avons utilisé mbe pour croître dans des superréseaux aln / gan, avec un nombre différent de périodes, sur des gabarits Movpe-Gan de 2,5 μm d'épaisseur pour étudier le développement de défauts tels que la déformation de surface due à la déformation. après croissance, les échantillons ont été étudiés par microscopie à force atomique (afm), microscopie électronique à transmission (tem), spectroscopie infrarouge à transformée de xrd et de Fourier (ft-ir). la souche augmente avec le nombre de puits quantiques (qws) et finit par provoquer des défauts tels que des microfissures visibles par microscopie optique à quatre périodes de qw ou plus. les images à haute résolution de tem ont montré des récessions peu profondes sur la surface (déformation de surface) indiquant la formation de microfissures dans la région de mqw. la largeur de raie d'absorption inter-sous-bande (est) mesurée à partir d'une structure à quatre périodes était de 97 mev, ce qui est comparable au spectre d'une structure de 10 périodes à une énergie d'absorption de ~ 700 méga. cela indique que la qualité de l'interface du mqw n'est pas sensiblement affectée par la présence de fissures.


mots clés

l'intersubband; gan; mbe; fissures de surface; substrat de saphir; modèle


source: sciencedirect


Pour plus d'information, veuillez visiter notre site web : www.powerwaywafer.com , envoyez-nous un email à sales@powerwaywafer.com ou powerwaymaterial@gmail.com .

Contactez nous

Si vous souhaitez un devis ou plus d'informations sur nos produits, s'il vous plaît laissez-nous un message, vous répondrons dès que possible.
   
discuter maintenant contactez-nous & nbsp;
Si vous souhaitez un devis ou plus d'informations sur nos produits, s'il vous plaît laissez-nous un message, vous répondrons dès que possible.