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photo combinée et lithographie par faisceau d'électrons avec polyméthyl méthacrylate (pmma)

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photo combinée et lithographie par faisceau d'électrons avec polyméthyl méthacrylate (pmma)

2016-08-24

abstrait

nous décrivons des techniques pour effectuer une photolithographie et une lithographie par faisceau d'électrons successivement sur le même substrat recouvert de résist. des ouvertures plus grandes sont définies dans le film de résist par photolithographie tandis que des ouvertures plus petites sont définies par une lithographie par faisceau d'électrons classique. les deux processus sont effectués l'un après l'autre et sans étape de développement humide intermédiaire. à la fin des deux expositions, le film de réserve est développé une fois pour révéler les grandes et les petites ouvertures. Il est intéressant de noter que ces techniques sont applicables aux lithographies à la fois positives et négatives avec une exposition à la fois optique et électronique. le polyméthacrylate de méthyle, seul ou en mélange avec un agent de réticulation photocatalytique, est utilisé à cette fin. nous démontrons que de telles résines sont sensibles à l'irradiation à la fois des ultraviolets et des faisceaux d'électrons. toutes les quatre combinaisons possibles, composées de lithographies optiques et de faisceaux d'électrons, effectuées dans des tons positifs et négatifs les modes ont été décrits. des structures de réseau de démonstration ont été montrées et des conditions de traitement ont été décrites pour les quatre cas.


source: iopscience


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